Depozice tenkých vrstev

Orientujeme se především na výzkum nových způsobů návrhu a depozice tenkých vrstev s unikátními vlastnostmi, vývoj prostředků a metod pro řízení depozičního procesu a na materiálový a strukturní výzkum vrstev.

Tým a vybavení

  • Výzkumníci s odborností v oborech elektroniky, automatizovaného řízení a měřicích technik, laboranti odpovědní za přípravu povrchů před nanášením vrstev;
  • doktorandi a studenti posledních ročníků magisterského studia, kteří se zabývají tématy depozice zvláštních dielektrických vrstev či jejich charakterizace;
  • zařízení pro vakuovou depozici tenkých vrstev - 5 vakuových komor s napařovací nebo naprašovací technologií;
  • měřicí přístroje pro analýzu optických vlastností vrstev (UV-VIS-IR spektrometrie, spektroskopická elipsometrie) umožňující nedestruktivní charakterizaci neznámých nebo ne zcela popsaných soustav tenkých vrstev;
  • měření povrchových vlastností vrstev pomocí interferometrie bílým světlem (WLI) a mikroskopem atomárních sil (AFM);
  • softwarové prostředky pro návrh soustav vrstev a teoretické rozbory jejich vlastností (Film 2000 a OptiLayer), nestandardní úlohy, pro které nejsou tyto softwary vhodné, řešíme vlastními kódy v prostředí VisualC++ a Matlab;
  • prostředky pro řízení a automatizaci depozičních aparatur – soft-PLC systém ControlWeb,  hardwarové prostředky DataLab, National Instruments a elektronika vlastní konstrukce.

Činnost

  • Návrh soustav tenkých vrstev - výzkum optimální kompozice soustav tenkých vrstev a procesů jejich depozice s aplikací ve VIS a IR oboru, nové přístupy k prostorové homogenizaci depozice;
  • výzkum absorpce v systémech tenkých vrstev s aplikací ve vrstvách pro výkonné laserové systémy;
  • výzkum absorpce vrstev ve střední a dlouhé infračervené oblasti a struktur vrstev potlačujících vliv vodních par na optické parametry vrstev;
  • charakterizace soustav tenkých vrstev (elipsometrie, spektrometrie) s možností využití technik destruktivní analýzy na zařízeních partnerských pracovišť);
  • vývoj řídicích, monitorovacích a napájecích systémů pro vakuovou depozici - vývoj systémů pro řízení nestandardních depozičních procesů (feroelektrické vrstvy, kombinace materiálů);
  • prototypová výroba speciálních tenkých vrstev, výpočty soustav tenkých vrstev na základě požadavků odběratele vč. simulace výtěžnosti při depozici a optimalizace dle charakteru depoziční technologie.

Projekty

  • “Technology Pre-development of Thermal Infra-Red Imager” pro Airbus Defence & Space (Francie);
  • Galium Fosfor připravený technologií vertikálního chladícího gradientu jako základní materiál pro optiku infračervených senzorů;
  • Čerpací moduly pro výkonové vláknové lasery.

Spolupráce

Navázali jsme spolupráci s vědeckovýzkumnými pracovišti jak v zahraničí, kde spolupracujeme například s Fraunhoferovým Institutem (Německo), tak i s pracovišti v České republice, např. se Západočeskou univerzitou v Plzni (Fakulta aplikovaných věd), Masarykovou univerzitou v Brně (Přírodovědecká fakulta), Technickou univerzitou v Liberci (Fakulta mechatroniky), Fyzikálním ústavem AV ČR, v.v.i. aj.

Kontakt

Ing. Jan Václavík
Tel.: +420 487 953 902
Mob.: +420 608 043 898
Email: vaclavik@ipp.cas.cz